1、高精度低溫恒溫槽和普通恒溫槽的區(qū)別 
對應型號尺寸沒有改變，但是溫度感應器和顯示器精度均增高 
2、低溫恒溫槽加熱溫度超過100度時，使用的介質(zhì)是什么物質(zhì) 
使用的甲基硅油，zui高溫可達到300度。 
3、低溫恒溫槽中換熱設備設計的主要內(nèi)客 
a、根據(jù)設計的任務結(jié)合各類低溫恒溫槽換熱設備的結(jié)構(gòu)和特點。選定設備形式必要時可同時選取幾種形式進行初步結(jié)構(gòu)設計，通過技術(shù)經(jīng)濟等綜合比較確定zui終形式。 
b、根據(jù)選定的初步結(jié)構(gòu)形式以及其他參數(shù)，低溫恒溫槽進行傳熱計算、阻力計算以及強度計算。計算結(jié)果應使結(jié)構(gòu)設計的傳熱面積與傳熱計算的傳熱面積相比有10％~20％的裕量，而計算壓陣小于允許壓降。在進行強度計算時，要特別注意所用材料的溫度特性。許多材料的特性在低溫時與常溫時相差很大，此外設計時還應遵循壓力容器的設計標準和規(guī)范。 
c、校核計算。 
d、進行精心的機械設計，低溫恒溫槽包括零部件尺寸的確定和強度鉸核、溫差腕力計算、熱補償力案確定等。 
4、低溫恒溫槽中換熱設備設計的前期準備 
首先要全面準確地理解設低溫恒溫槽計任務書對設計的要求。掌握工藝生產(chǎn)的某些條件如工作溫度、允許溫差壓力、允許壓降、工作流體的物理和化學性質(zhì)等。除此之外還應包括設備熱負荷、低溫恒溫槽可以提供的材料、加工條件等方面。這些資料是選型的依據(jù)、同時也是熱力計算的前提。
對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。
分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調(diào)幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用的純凈水在機內(nèi)外循環(huán)冷卻，可保證對水質(zhì)要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命。

低溫恒溫槽使用中常見問題： 
1、恒溫恒濕箱的水循環(huán)制冷速度好像越來越慢了，在氣溫越高時越明顯。水循環(huán)使用很簡單，但是定期的維護保養(yǎng)工作還是不能忽視的。有很多看似故障的毛病其實就是沒有定期做維護保養(yǎng)引起的。水循環(huán)自身的電功率和制冷劑從負載中帶走的熱量都需要從前通風罩處的散熱器中排走，如果前通風罩上吸滿灰塵和柳棉等就會妨礙這些熱量的散發(fā)，制冷效果將大打折扣。一般來說在正常的使用條件下制冷量下降都是因為通風散熱效果太差或環(huán)境溫度太高引起的。 
2、恒溫恒濕箱的水循環(huán)噪音比以前大很多，這是什么原因?前面提到過水循環(huán)的日常維護工作，這個問題也與之有關(guān)。大家都知道，水里面有很少部分的雜質(zhì)，就是蒸餾水在加到低溫恒溫槽水箱后也不可能*保證一點雜質(zhì)都沒有。對于水循環(huán)而言，一般溫度都設置在20℃，特別適應微生物的生長和繁衍。時間長了以后這些微生物就會堵塞水路的過濾器造成回水不暢，水泵就會有較大的噪音。有時這些微生物附在了換熱器的表面，造成換熱器的傳熱效果變差，制冷量變小。所以一定要嚴格按照說明書中的要求做好日常維護工作，定時清洗內(nèi)槽，長期停用，保持槽內(nèi)干燥。水循環(huán)里面好像有漏水，有時地面一會兒就有幾滴，是不是水路上有地方泄漏?一般來說在正常使用的過程中，水路是不會有泄漏的。在環(huán)境溫度比較高空氣中的相對濕度又太大時，在水循環(huán)的水路中的水泵、水管接頭、外接水管處容易凝結(jié)露水，累積多了以后就滴到地面上了，不用擔心是水路中有漏水的地方。如果您對這很介意的話，打開空調(diào)降低房間溫度或是除濕都可以避免露水的產(chǎn)生。